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真空爐內部需求保持必定的真空度，以排除空氣對加熱進程和物料處理的影響。石墨件在此環境下工作，需求具有良好的密封功能，以避免氣體泄漏和外界雜質進入。
某些工藝進程需求特定的氣氛環境，如惰性氣體（氮氣、氬氣等）或還原性氣氛。因而，有必要裝備相應的氣氛控制系統，以保證爐內氣氛的穩定性和均勻性。

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