真空爐中的溫度散布
石墨棒加熱元件安置在加熱室兩邊的安置法,特別適于高真空爐。在高真空氣氛中,由兩邊加熱元件發生的熱輻射區可以對工件進行均勻地加熱。當爐溫在400—1300℃時,加熱區各點溫差可達±5 K。 60年代曾經,溫度控制一直是熱處理技能中的主要問題之一。后來因為采用了電子溫控技能,這個問題已經處理。目前,從溫度散布的角度來看,熱區溫度散布的精度是重要問題。咱們幾乎總是要優先考慮力求在結構上能確保獲得溫度均勻的熱區,至于因為某種原因使熱區出現暫時性的溫度不均勻現象也會隨保溫時間的延長而消失。反之,溫度較高或較低的熱區會使它的有害影響貫穿于熱處理的始終。下面咱們介紹在這方面卓有成效,溫度梯度低于0.01K/cm的真空爐結構。 真空爐除了具有溫度均勻性外,還有其它一些優點。耗能少,完全避免運用有毒資料,加熱、資料放氣發生煙塵對環境的污染、完滿地處理了資料表面氧化或畸變問題。因為有這些優點已使真空爐成為現時熱處理工藝中不行少的條件。 真空中的傳熱 從傳熱來看,真空起到雙重作用。
